教师:刘召军
第一章 第三代半导体的基本概念与战略意义(4 学时)
1. 第三代半导体的定义及范围(1 学时);2. 碳化硅与氮化镓晶体结构与原子空间排布(1 学时);3. 费米能级与能带
结构(0.5 学时);4. 缺陷态与掺杂(0.5 学时);5. 第三代半导体的主要应用与战略意义(1 学时)。
第二章 第三代半导体的制备工艺与表征 (6 学时)
1. 碳化硅与氮化镓的外延生长工艺 (1 学时);2. 材料表征手段与分析技术(1 学时);3. P 型与 n 型半导体材料的制
备技术(1 学时);4. 霍尔效应(0.5 学时);5. 欧姆接触与肖特基接触(0.5 学时);6. 第三代半导体制备工艺模拟
与仿真(2 学时)。
第三章 第三代半导体电力电子器件(12 学时)
1. 碳化硅与氮化镓器件基础原理(1 学时);2. 结型 HEMT(1 学时);3. MOS-HEMT(2 学时);4. 直流特性测试与
参数提取(1 学时);5 高频特性测试与数据分析(2 学时);6. 高压特性(1 学时);7. 具体应用实例(2 学时);
8. HEMT 器件模型参数提取(2 学时)。
第四章 第三代半导体发光与显示器件 (14 学时)
1. LED 与半导体激光器原理与结构(3 学时);2. 半导体照明技术(2 学时);3. 第三代半导体新型显示技术(2 学
时);4. 光电测试与表征手段(1 学时);5. 具体应用实例与模拟仿真(2 学时);6.器件表征手段与模型提取(1 学
时);7. 封装技术与热稳定性(1 学时)。
第五章 第三代半导体光电转换器件(6 学时)
1. 氮化镓传感器原理与器件结构(2 学时);2. 光伏器件原理与结构(2 学时);3. 氮化镓传感器与光伏器件测试手段
(2 学时);4. 具体应用实例与模拟仿真(2 学时)
第六章 未来技术及展望(6 学时)
1. 第三代半导体技术的发展趋势(1 学时);2. 异质光电集成技术(1 学时);3. 同质光电集成技术(1 学时);4. 光
通讯/光互联技术(1 学时);5. 未来技术(1 学时);6. 光通讯应用实例展示(1 学时)
Instructor: Zhaojun Liu, Assistant Professor, Department of Electrical and Electronic Engineering, SUSTech.
Chapter 1. Concepts of wide band-gap semiconductors and the key role to government strategy
1. Definition of wide band-gap semiconductors; 2. Crystal structure and atom spatial arrangement of SiC and GaN; 3.
Femi level and energy band theory; 4. Defects and doing; 5. Key applications.
Chapter 2: Growth, fabrication, and characterization methods of wide band-gap semiconductors
1. Epi-growth of SiC and GaN; 2. Characterization and analysis technique of materials; 3. p-type and n-type
semiconductors; 4. Hall Effect; 5. Ohmic contact and schottky contact; 6. Calculation and simulation of SiC and GaN
materials.
Chapter 3. Working principle and applications of SiC and GaN power electronics
1. Fundamentals of SiC and GaN devices; 2. JFETs; 3. MOSHEMTs; 4. DC characteristics and parameters extraction;
5. RF characteristics and data analysis; 6 Break down; 7. Key applications; 8. GaN HEMT characterization and